將納米氮化鈦添加到TiN/Al2O3復相納米陶瓷中，通過(guò)各種方法（如機械混合法）等將其混合均勻，得到的這種含有納米氮化鈦顆粒的陶瓷材料內部便形成導電網(wǎng)絡(luò )。這種材料可作為電子元件應用于半導體工業(yè)中。

（6）在鎂碳磚中添加一定量的TiN，能夠使鎂碳磚的抗渣侵蝕性得到很大程度的提高。

（7）氮化鈦是一種優(yōu)良的結構材料，可用于噴汽推進(jìn)器以及火箭等。在軸承和密封環(huán)領(lǐng)域也多用氮化鈦合金，凸顯了氮化鈦優(yōu)異的應用效果。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

對應于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來(lái)，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為當今zui先進(jìn)的表面處理方式之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。物理氣相沉積（PVD）物理氣相沉積是通過(guò)蒸發(fā)，專(zhuān)業(yè)不銹鋼鍍鈦哪里有，電離或濺射等過(guò)程，產(chǎn)生金屬粒子并與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍三種。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的具體原理是在真空條件下使用低壓，大電流電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使目標材料蒸發(fā)并使氣化的物質(zhì)和氣體電離，并利用電場(chǎng)加速功能，將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD涂膜層的特性，采用PVD涂膜技術(shù)鍍膜的膜層具有高硬度，高耐磨性（摩擦因數），良好的耐腐蝕性和化學(xué)穩定性的特點(diǎn)，并且該膜具有更長(cháng)的壽命。同時(shí)，薄膜可以大大改善工件的外觀(guān)和裝飾性能?？赏ㄟ^(guò)PVD涂層電鍍的薄膜類(lèi)型，PVD涂層技術(shù)是一種環(huán)保的表面處理方法，可以真正獲得微米級涂層而無(wú)污染。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制